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碳化硅缺陷检测设备(NOVA-2000)，用于SiC抛光衬底片和同质外延片的缺陷检测，针对SiC缺陷的多样性设计专用多通道光学检测系统和缺陷自动检测分类算法，对微管、层错、三角形缺陷、台阶聚集等各类缺陷进行检出和提取分类，对SiC质量控制和工艺提升有显著作用。

激光共聚焦显微镜(LCM-2000)，具备光学显微成像与激光共聚焦成像双重检测模式，主要用于各类材料的表面形貌与表面缺陷的三维检测分析。

多光谱智能透镜外观检测仪(AOSI-4000S)，主要用于各类光学元件、光学晶体、光学陶瓷的全自动表面质量检测。 本设备自动化程度高，批量上料，自动送检，智能检测，根据检测结果智能分拣，并生成统计日志。检测结果可根据需求进行保存，保证检测结果可溯源性。

玻璃晶圆缺陷检测设备(NOVA-2000-G)，是用于透明或半透明玻璃晶圆衬底的缺陷检测设备，可检出颗粒物、划痕、凹坑、凸起、崩边、裂纹等缺陷，对透明晶圆的质量控制具有重要作用。 玻璃晶圆缺陷检测设备集成明场、暗场等多种检测模式，对各类缺陷提供可靠的缺陷信息，结合缺陷自动检测与分类算法，提取包括缺陷类型、尺寸、坐标、统计数据等在内的各项缺陷数据，生成晶圆缺陷检测报告供用户进行质量评估和判定。

光学吸收测量仪(标准版)PTS-2000/PTB-2000，是一种基于激光诱导效应的光学检测设备。可以对光学薄膜、光学晶体、激光晶体、各类石英等材料进行吸收缺陷测量和吸收均匀性分布测量。

铌(钽)酸锂缺陷检测设备(NOVA-2000-LN)，是用于铌酸锂、钽酸锂等衬底晶圆的缺陷检测设备，可兼容黑化、半黑化、全透明等不同工艺类型，可检出颗粒物、划痕、凹坑、凸起、崩边、裂纹等缺陷，对晶圆的质量控制具有重要作用。 铌(钽)酸锂缺陷检测设备(NOVA-2000-LN)集成明场、暗场等多种检测模式，对各类缺陷提供可靠的缺陷信息，结合缺陷自动检测与分类算法，提取包括缺陷类型、尺寸、坐标、统计数据等在内的各顶缺陷数据，生成晶圆缺陷检测报告，供用户进行质量评估和判定。

平面元件外观缺陷检测设备(AOSI-4000F)主要用于平面光学元件的全自动外观质量检测，具有自动化程度高，批量上下料，自动传送，智能检测，根据检测结果智能分选，并生成每个元件的检测报告。设备可生成检测日志，按不同时间周期进行元件检测数量、缺陷检测类型比例等条件进行日志生产，观察生产良率变化，对生产工艺改进做出指导。

深紫外光学吸收测量仪(PTS-DUV-2000/PTB-DUV-2000)，是一款基于激光诱导光热检测技术，专为深紫外波段光学材料和元件吸收特性检测分析而开发的高灵敏度精密光学测试仪器。

图形晶圆缺陷检测设备(AMMI-2000)，用于半导体制造的前道检测，对图形晶圆的宏观缺陷，如划痕、颗粒脏污、腐蚀、图形结构缺陷等进行检测，对集成电路芯片的性能和可靠性保证有重要作用。AMMI-2000集成明场、暗场等多种检测模式，对图形晶圆各类缺陷提供可靠的缺陷信息，结合缺陷自动检测与分类算法，提取包括缺陷类型、尺寸、坐标、统计数据等在内的各项缺陷数据，生成晶圆缺陷检测报告供用户进行质量评估和判定。

激光量热吸收测量仪 (LC-2000), 是一种基于激光量热法测量光学元件弱吸收的光学检测设备。 由泵浦激光对光学元件进行辐照加热，采用高精度温度探测器对激光辐照区域进行温度测量，从而获 得光学元件对该波长下的激光的吸收信息。 LC-2000 适用于各类光学薄膜和光学元器件吸收率的检测和分析。根据客户具体需求，可进行紫外 可见或者近红外波段的精密测量。对于光学材料质量生产指导具有重要作用。

光学元件激光损伤检测及预处理设备(LDT-2000-C)，主要用于测试光学元件的激光损伤阈值以保证放置于光路中的各类光学元件的强激光负载性能，应用范围包括光学元件激光损伤测试、体材料激光损伤测试镀膜工艺优化等。

多模态表面缺陷检测仪(MMDI-2000)，结合全口径缺陷快速识别与子孔径高灵敏度、高分辨率显微成像的检测方式，对表面缺陷尺度、位置、形态进行统计分析，并可结合使用光热弱吸收、显微成像等不同模态检测用户关注的缺陷区域，获取关注区域的缺陷信息;也可以利用微分干涉相衬显微成像技术，实现凸起和凹坑的区分。